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太原结晶粉批发,期待与您长期合作

2021-08-04 12:27:01 565次浏览

价 格:面议

抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成。不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。通常,氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光,氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光,氧化铁也可用于玻璃,但速度较慢,常用于软性材料的抛光。石材的抛光常使用氧化锡,瓷砖的抛光常使用氧化铬。

混凝土、水泥地面存在着很多的由水泥水化产生的毛细管,空气、水等物质可以通过毛细管深入混凝土的内部。水的交替冻融可以导致混凝土的冻融破坏。二氧化碳与混凝土中的活性钙离子反应生成碳酸钙,降低混凝土的碱性,使混凝土的体积膨胀,引起破坏。其他酸性气体和氯离子进入混凝土内部,腐蚀里面的钢筋增强件,造成混凝土的破坏。

抛光粉的基本要求

(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛的筛网目数 能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

(2)有较高的纯度,不含机械杂质。

(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率;好的 抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,纳米粒径的抛光粉的悬 浮性相对的要好一些,所以精抛一般选择纳米抛光粉。

(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;粉体的晶型是团聚在一起的单 晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合,硬度相对大的粉体具 有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。

这两个概念主要出半导体加工过程中,初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

版权所有:安普(山西)抛光材料生产厂家(ID:35098232) 技术支持:杨宇

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