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太原巴蜡乳液生产商,享有良好的口碑

2020-08-14 11:15:01 270次浏览

价 格:面议

抛光粉的基本要求

(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛的筛网目数 能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

(2)有较高的纯度,不含机械杂质。

(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率;好的 抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,纳米粒径的抛光粉的悬 浮性相对的要好一些,所以精抛一般选择纳米抛光粉。

(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;粉体的晶型是团聚在一起的单 晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合,硬度相对大的粉体具 有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。

性能特点: 1、光泽度高,可达100度以上,超出新出厂石材的标准。 2、硬度高,不易划伤,一般硬物(或自然行走)不会对石材造成磨损。 3、均匀、平整、光滑、天然、清澈,有镜面感觉,显现石材天然色泽。 4、表面干爽,不吸附尘埃,尘埃沙粒仅停留在表面,易彻底清理。 5、还具有防滑、防污效果。 适用范围:特特别适用于一些比较难处理的大理石,如:洁士白、大花绿等石材。大理石面板、墙壁的清洗、增亮、防护处理。晶面处理后石材表面的日常维护处理。

影响抛光粉性能的指标

(1)粉体的粒度大小:决定了抛光精度和速度,常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

(2)粉体莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。

(3)粉体悬浮性:好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液(剂)来改善。

(4)粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

(5)外观颜色:原料中Pr的含量及灼烧温度等因素有关,镨含量越高,其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨(铈镨料),使其显棕红色。高铈抛光粉,灼烧温度越高,其显偏白粉色,温度低(900度左右),其显淡黄色。

这两个概念主要出半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

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